芯愿景杯（技能邀请赛）——45nm运算放大器版图设计

45nm运算放大器版图设计

（职业类院校邀请赛赛题）

CEX公司的版图设计部门期望选拔一批版图工程师，完成先进工艺（45nm）版图设计技术知识和技能考核，以为未来CEX公司的后端设计服务做人才储备。

基于此需求，CEX公司为应聘的版图工程师安排了一系列相关的技术培训。培训完成后，CEX公司希望从接受培训的工程师中选拔一批技术过硬的优秀工程师，补充到现有技术团队，以承接65nm及以下先进工艺的后端设计服务项目。你们作为版图工程师，正在参加CEX公司的先进工艺后端版图设计服务团队选拔赛，需要现在2个小时的时间内，完成选拔赛题。

在该选拔赛题中，你们需要完成运算放大器的版图设计和DRC、LVS验证，赛题将主要考察对版图器件的布局、对称性、器件匹配等，主要考察对版图设计和验证软件的使用，版图设计的技巧掌握，共分为两个部分：

1. 根据现场提供的运算放大器电路原理图和版图设计及验证规则，在EDA软件中进行布局规划和版图设计；

2. 完成版图数据的DRC和LVS验证；

评分依据：

备战要点：
1. 熟知版图绘制的基本注意事项，如器件的匹配对称，绘制引线简洁性，关键电路版图保护环的隔离处理；
2. 练习Cadence软件版图绘制基本操作；
3. 练习Layout XL根据电路生成版图；
4. 可自行获取特定工艺线的工艺规则和验证规则，练习一个运放电路的版图设计，进行DRC、LVS验证，并根据报错进行数据修改至最终通过验证；

5. 采用Cadence 45nm CMOS GPDK工艺库或各校自有PDK；（也可加入赛事群获取GPDK相关资料）

6. 参赛选手需提前配置好设计环境（计算机、操作系统、设计和验证软件）及相关资料（向Cadence申请45nm CMOS GPDK或采用学校已购PDK）。