芯愿景杯(技能邀请赛)——45nm运算放大器版图设计

45nm运算放大器版图设计

(职业类院校邀请赛赛题)

CEX公司的版图设计部门期望选拔一批版图工程师,完成先进工艺(45nm)版图设计技术知识和技能考核,以为未来CEX公司的后端设计服务做人才储备。

基于此需求,CEX公司为应聘的版图工程师安排了一系列相关的技术培训。培训完成后,CEX公司希望从接受培训的工程师中选拔一批技术过硬的优秀工程师,补充到现有技术团队,以承接65nm及以下先进工艺的后端设计服务项目。你们作为版图工程师,正在参加CEX公司的先进工艺后端版图设计服务团队选拔赛,需要现在2个小时的时间内,完成选拔赛题。

在该选拔赛题中,你们需要完成运算放大器的版图设计和DRC、LVS验证,赛题将主要考察对版图器件的布局、对称性、器件匹配等,主要考察对版图设计和验证软件的使用,版图设计的技巧掌握,共分为两个部分:

1. 根据现场提供的运算放大器电路原理图和版图设计及验证规则,在EDA软件中进行布局规划和版图设计;

2. 完成版图数据的DRC和LVS验证;

评分依据:

职业类院校邀请赛赛题评分标准

布局规划

10%

布局紧凑、合理,形状为矩形

电流镜、差分对、电流源的匹配、对称设计;电位孔的设计;电位隔离环的设计

60%

电流镜差分对的自身的匹配、对称,电流镜、差分对、电流源中轴线的对称;电流镜、差分对要设计隔离环;电位孔尽量多,器件间连线尽量简洁,同层走线的走向尽量一致

DRC和LVS验证

30%

版图数据通过DRC和LVS验证


备战要点:
1. 熟知版图绘制的基本注意事项,如器件的匹配对称,绘制引线简洁性,关键电路版图保护环的隔离处理;
2. 练习Cadence软件版图绘制基本操作;
3. 练习Layout XL根据电路生成版图;
4. 可自行获取特定工艺线的工艺规则和验证规则,练习一个运放电路的版图设计,进行DRC、LVS验证,并根据报错进行数据修改至最终通过验证;

5. 采用Cadence 45nm CMOS GPDK工艺库或各校自有PDK;(也可加入赛事群获取GPDK相关资料)

6. 参赛选手需提前配置好设计环境(计算机、操作系统、设计和验证软件)及相关资料(向Cadence申请45nm CMOS GPDK或采用学校已购PDK)。